电子枪与离子束技术

出版时间：2004-1  出版社：冶金工业出版社发行部  作者：张以忱 编  页数：284  

内容概要

本书主要介绍与电子枪、离子源设计有关的基础理论，离子源及离子束应用技术，特别介绍了常用的强流轴向电子枪、偏转电子枪、HCD电子枪与S枪的设计与计算。    本书集设计理论和具体设计方法于一体，理论与工程实践有机结合，适合于真空技术、真空冶金、材料工程、热处理、焊接等行业从事设计研究、设备应用与维护的技术人员使用，也可供大专院校相关专业师生参考。

书籍目录

1 电子光学  1.1  电子光学特征  1.2  轴对称电场中的电子运动  1.3  电透镜  1.4  磁透镜  1.5  实用磁透镜  1.6  静电透镜与磁透镜的比较2 电子束技术基础  2.1  电子束的产生及性质  2.2  电子枪概述  2.3  强流电子枪设计基础  2.4  电子束蒸发沉积3 离子束物理基础  3.1  等离子体基本性质  3.2  等离子体的分类  3.3  等离子体的获得  3.4  低温等离子体中粒子运动和效电基本过程  3.5  离子束与材料表面的相互作用4 强流轴向电子枪  4.1  概述  4.2  轴向电子枪基本结构和工作原理  4.3  轴向电子束发生系统设计计算  4.4  电子光路系统设计计算  4.5  枪室真空系统设计  4.6  电子枪的调试  4.7  强流轴向枪电源设计  4.8  电子枪X射线的形成与屏蔽防护5 偏转电子枪  5.1  电子束流磁偏转理论基础  5.2  偏转电子枪工作原理与结构  5.3  偏转枪（e型枪）参数设计  5.4  偏转电子枪束流设计计算  5.5  压差孔的设计  5.6  电子枪头的安装与调试  5.7  偏转电子枪电源6 空心阴极放电（HCD）电子枪  6.1  空心阴极放电效应  6.2  空心阴极电子枪工作原理  6.3  空心阴极电子枪设计参数  6.4  HCD枪中等离子体的离化率与电流形成  6.5  偏转电磁场的设计计算  6.6  空心阴极与辅助阳极的设计  6.7  离子镀中等离子源的束流偏转7 离子束技术  7.1  离子源  7.2  离子注入技术  7.3  离子束沉积技术8 S枪离子溅射源的设计基础  8.1  S枪的基本原理与结构  8.2  S枪溅射源结构设计  8.3  S枪磁控溅射的工作特性  8.4  基本参数的设计计算参考文献

用户评论 (总计8条)

•   写的很不错，做毕业设计可以用一下了。
•   太深奥了，没有实际的东西
•   有的放矢买的，所以很满意
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•   内容不多，但看不懂
•   此书相当不错印数不多建议赶紧购买
•   此书是关于电子枪和离子枪的介绍，易懂，不错，相关人员可以看看
•   该书的内容设置很集中,从事电子枪及离子束技术的工程技术人员或操作员均可以在这本书中找到适合自己的内容.我是针对学习离子束技术买的该书,从基础理论上学习到了很多知识,可以直接的指导日常的工作.觉得很好.我觉得该类书籍印册可能很少,建议需要的人赶紧抢本.