出版时间:2001-11 出版社:化学工业出版社 作者:布里格斯 译者:曹立礼
内容概要
本书深入论述了X射线光电子谱(XPS)和静态次级离子质谱(SSIMS)及其在聚合物材料研究中的应用。在聚合物表面的结构分析与特性研究,特别是解决工业研究中有关问题时,XPS和SSIMS普遍被认为是强有力的技术。随着过去十年仪器分析能力和数据阐释方面的飞速发展,该领域已经发展到有可能将这两方面的信息合并起来的阶段。本书中,作者叙述了XPS和SSIMS技术,并就各自可获得的住处类型分别作了解释。本书也包含实际研究细节,强调了在聚合物表面结构研究中,XPS和SSIMS的信息互与联合作用,及其同材料性质的关联。对那些有志于聚合物表面和表面分析科学工作者、工业研究人员,本书是很有考参价值的。
书籍目录
第一章 引言
1.1 聚合物表面的重要性
1.2 聚合物表面和体相的差异
1.3 添加剂和污染物的影响
1.4 聚合物表面预处理及改性
1.5 与表面特性有关的深度范围
1.6 聚合物表面分析技术的要求
1.7 XPS简要历史
1.8 SIMS简要历史
第二章 X射线光电子谱
2.1 仪器结构
2.2 物理基础
第三章 聚合物的XPS信息
图书封面
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