薄膜材料科学

出版时间：2006-4  出版社：世界图书出版公司(此信息作废)  作者：奥林  页数：794  
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内容概要

　　本书详细介绍了涉及薄膜材料科学的各个方面，内容包括真空技术、薄膜沉积技术与原子过程、薄膜的结构与性能表征等。本书内容广泛，资料全面，各章后面附有习题，是一本真正意义上的薄膜科学与技术的教科书。该书自1992 年第1版问市以来，深受材料科学界的广泛欢迎。非常适用于从事薄膜材料研究的专业研究人员、材料类院系高年级本科生和研究生作教材或参考书。本书由中国科学院物理研究所研究员曹则贤先生特别推荐。　　本书为英文版！

作者简介

作者：(英国)奥林 (Ohring M.)Milton Ohring, 生于1936年，美国史第文斯理工学院材料工程学系教授，在此职位上工作37年期间，一直活跃在讲台。同时，作者还是材料科学、薄膜技术、微电子学等领域的资深研究专家。其他相关著作还有Engineering Materials science,Academic Press(1995),Reliability&failure of electronic Materials &Devices,Academic Press(1998)等。

书籍目录

ForewordtoFirstEditionPrefaceAcknowledgmentsAHistoricalPerspectiveChapter1 AReviewofMaterialsScience1.1 Introduction1.2 Structure1.3 DefectsinSolids1.4 BondsandBandsinMaterials1.5 ThermodynamicsofMaterials1.6 Kinetics1.7 Nucleation1.8 AnIntroductiontoMechanicalBehavior1.9 ConclusionExercisesReferencesChapter2 VacuumScienceandTechnology2.1 Introduction2.2 KineticTheoryofGases2.3 GasTransportandPumping2.4 VacuumPumps2.5 VacuumSystems2.6 ConclusionExercisesReferencesChapter3 Thin-FilmEvaporationProcesses3.1 Introduction3.2 ThePhysicsandChemistryofEvaporation3.3 FilmThicknessUniformityandPurity3.4 EvaporationHardware3.5 EvaporationProcessesandApplications3.6 ConclusionExercisesReferencesChapter4 Discharges,Plasmas,andIon-SurfaceInteractions4.1 Introduction4.2 Plasmas,Discharges,andArcs4.3 FundamentalsofPlasmaPhysics4.4 ReactionsinPlasmas4.5 PhysicsofSputtering4.6 IonBombardmentModificationofGrowingFilms4.7 ConclusionExercisesReferencesChapter5 PlasmaandIonBeamProcessingofThinFilms5.1 Introduction5.2 DC,AC,andReactiveSputteringProcesses5.3 MagnetronSputtering5.4 PlasmaEtching5.5 HybridandModifiedPVDProcesses5.6 ConclusionExercisesReferencesChapter6 ChemicalVaporDeposition6.1 Introduction6.2 ReactionTypes6.3 ThermodynamicsofCVD6.4 GasTransport6.5 FilmGrowthKinetics6.6 ThermalCVDProcesses6.7 Plasma-EnhancedCVDProcesses6.8 SomeCVDMaterialsIssues6.9 Safety6.10 ConclusionExercisesReferencesChapter7 SubstrateSurfacesandThin-FilmNucleation7.1 Introduction7.2 AnAtomicViewofSubstrateSurfaces7.3 ThermodynamicAspectsofNucleation7.4 KineticProcessesinNucleationandGrowth7.5 ExperimentalStudiesofNucleationandGrowth7.6 ConclusionExercises ReferencesChapter8 Epitaxy8.1 Introduction8.2 ManifestationsofEpitaxy8.3 LatticeMisfitandDefectsinEpitaxialFilms8.4 EpitaxyofCompoundSemiconductors8.5 High-TemperatureMethodsforDepositingEpitaxialSemiconductorFilms8.6 Low-TemperatureMethodsforDepositingEpitaxialSemiconductorFilms8.7 MechanismsandCharacterizationofEpitaxialFilmGrowth8.8 ConclusionExercisesReferencesChapter9 FilmStructure9.1 Introduction……Chapter10 CharacterizationofThinFilmsandSurfacesChapter11 Interdiffusion,Reactions,andTransformationsinThinFilmsChapter12 MechanicalPropertiesofThinFilmsIndex

编辑推荐

　　本书详细介绍了涉及薄膜材料科学的各个方面，内容包括真空技术、薄膜沉积技术与原子过程、薄膜的结构与性能表征等。本书内容广泛，资料全面，各章后面附有习题，是一本真正意义上的薄膜科学与技术的教科书。该书自1992 年第1版问市以来，深受材料科学界的广泛欢迎。非常适用于从事薄膜材料研究的专业研究人员、材料类院系高年级本科生和研究生作教材或参考书。本书由中国科学院物理研究所研究员曹则贤先生特别推荐。

用户评论 (总计5条)

•   书内容很好 不过寄过来的书目录和前言全是空白
•   内容一般，比较传统的内容。
•   还不错，好厚，需要花很多时间去读了
•   这本书既适合作教材，也适合做参考书。里面的内容覆盖了薄膜生长的原理、真空系统的设计、各种具体的薄膜生长方法、薄膜的分析测试，不同于一般参考书的简单介绍，而是有适当地深入。讲解有原理有推导，不会凭空给你一个公式不加解释，方便学生理解。每章之后还有适当习题，难度不大，适合深化理解章节中的一些理论。给出的参考读物有助于读者进一步了解。目前还没有发现一本中文教材能同时达到这本书的水准。
•   注意！此书为英文版！！！！