超大规模集成电路技术基础

出版时间：1999-5-1  出版社：电子工业出版社  作者：李兴  页数：255  
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书籍目录

绪论
第一章  硅的晶体结构
第二章  光刻
第三章  掺杂
第四章  氧化及热处理
第五章  薄膜工艺基础与物理气相沉积
第六章  化学汽相沉积（VCD）
第七章  刻蚀
第八章  平坦化及多重内连线工艺
第九章  超大规模集成电路工艺汇总